AS真空快速退火炉,性能ZYUE,可搭配分子泵实现高真空下热处理工艺。Z高温度1500 ℃,Z快升温速率200℃/Second。全程PC软件控制升温程序,保证温度不过冲,控温精度准确。
AS-Micro真空快速退火炉,性能,可搭配分子泵实现高真空下热处理工艺。zui高温度1250 ℃,zui快升温速率250℃/Second。全程PC软件控制升温程序,保证温度不过冲,控温精度准确。
快速退火炉系统SSI是一个简单稳定的热处理系统,适合于广泛大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火(RTA),(如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等)。
SSI快速退火炉系统是一个简单稳定的热处理系统,适合于广泛大尺寸为直径2~8英寸的基片材料和结构的快速热低温退火(RTA),(如电子级硅、钢铁、玻璃、单晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、锗、超导体、陶瓷等等)。